【GMD2000系管線式電子廢液研磨分散機列的特點】 ①具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。②該設備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質混合。③三級研磨分散機由定、轉子系統(tǒng)所產生的剪切力使得溶質轉移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
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【GMD2000系列研磨分散機在電子廢料處理中的作用】
面對浮油的問題，上海思峻技術員們根據這部分客戶的需要，研發(fā)生產出GMD2000系列的研磨分散機，將電子廢料通過清洗劑，表面活性劑處理后，在用GMD2000研磨分散機處理一邊，處理之后浮油可以乳化掉，直接排放。更有利于環(huán)境保護。
【電子廢液GMD2000系列研磨分散機的工作原理】
電子廢液GMD2000系列研磨分散機就是高效、快速、均勻地將一個相或多個相（液體、固體、氣體）進入到另一互不相溶的連續(xù)相（通常是液體）的過程。而在通常情況下各個相是互不相溶的。當外部能力輸入時，兩種物料重組成為均一相。由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能，使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂等綜合作用，形成懸乳液、乳液和泡沫。從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應成熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細的分散乳化，經過高頻的循環(huán)往復，zui終得到穩(wěn)定的高品質產品。
【GMD2000系管線式電子廢液研磨分散機列的特點】
①具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。
②該設備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質混合。
③三級研磨分散機由定、轉子系統(tǒng)所產生的剪切力使得溶質轉移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
【電子廢液GMD2000系列研磨分散機設備選型表】
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
GMD2000/4 | 300-1，000 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25 | DN15 |
GMD2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40 | DN32 |
GMD2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50 | DN50 |
GMD2000/20 | 20，000 | 3，000 | 23 | 37 | DN80 | DN65 |
GMD2000/30 | 40，000 | 1，500 | 23 | 55 | DN150 | DN125 |
GMD2000/40 | 70，000 | 1，500 | 23 | 90 | DN150 | DN125 |
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